半導體光阻為形成高密度且多層結構電路時，製程上不可或缺的感光材料。住友化學以基礎深厚的化學合成技術為根本，開發完整的光阻產品線，包含i-line、KrF、ArF和最先端的EUV製程所需光阻，業界最先端的EUV製程也可對應。
半導體光阻開發願景
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住友化學在半導體光阻領域持續深耕，協助客戶面對低能耗、演算速度增加和記憶容量增大而伴隨日益微細且複雜的半導體電路開發需求，與業界一同挑戰物理極限。
半導體光阻應用領域
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於日常生活中被廣泛地使用在如行動電話、個人電腦、電視和汽車感應器等等…為對應電子設備日益複雜的功能需求，半導體元件的性能需持續提升。
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性能提升的同時，元件基板上必須擁有更高密度與多層電子線路，這些電子線路是透過微影(Photolithography)製程所產出，故光阻是微影製程中不可或缺的感光性材料。
微影製程
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半導體元件主要由微影製程形成，由半導體光阻塗佈在矽晶圓上，經光罩曝光、顯影(正型光阻為光照部分溶解，而負型光阻為光照部分殘留)、蝕刻，最後光阻剝離形成線路，多層IC為反覆微影製程製造而成。
